Intel, Dünyanın En İnce GaN Çipletini Geliştirerek Güç Verimliliğinde Yeni Bir Dönem Başlatıyor
1 gün önce · 13 saat önce güncellendi
Intel, 19 mikrometre kalınlığındaki dünyanın en ince GaN (Galyum Nitrür) çipletini tanıttı. Bu çiplet, 300 mm'lik GaN-on-silicon wafer üzerinde üretilerek güç verimliliği ve yoğunluk açısından önemli bir gelişme sağlıyor. GaN transistörlerinin silikon tabanlı dijital devrelerle birleştirilmesi, enerji kaybını azaltarak daha verimli güç dağıtımına olanak tanıyor. Özellikle 5G ve 6G teknolojileri için kritik avantajlar sunan bu yeni yapı, yüksek frekans performansı ile yeni nesil iletişim sistemlerinde önemli bir rol oynayabilir.
Manşetler· 3 kaynak
Bu haber 3 farklı kaynaktan derlendi
gaste.co
45+ kaynaktan derlenen tarafsız haber akışı
Hesap oluştur →Kendi kategorilerini oluştur, kaynakları filtrele